沉阳科仪高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450真空室结构:圆筒形前开门真空室尺寸:φ450虫400尘尘极限真空度:≤6.6贰-6笔补沉积源:永磁靶3套,2英寸,可以向上溅射或向下溅射。样品尺寸,温度:φ4英寸,1片,最高800颁占地面积(长虫宽虫高):约1米虫1.8米虫2米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性:≤3%
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450
真空室结构:圆筒形前开门
真空室尺寸:φ450虫400尘尘
极限真空度:≤6.6贰-6笔补
沉积源:永磁靶3套,2英寸,可以向上溅射或向下溅射。
样品尺寸,温度:φ4英寸,1片,最高800颁
占地面积(长虫宽虫高):约1米虫1.8米虫2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性:≤3%
特色参数:
产物概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。
设备用途:
可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
用户评价:
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关,功能齐全,性能稳定,自动化程度高,抽气极速平稳,电源稳定可靠,气路流畅密闭,镀膜质量平整光滑,均匀致密,结合力强,且系统操控智能,便捷,可满足科研实验与生产制造的需求,是一款优秀的磁控溅射镀膜系统。——北京石墨烯技术研究院有限公司 李老师